mist 캡쳐

Performance
많은 산업공정, 특히 화학관련 공정중에서 미크론 이하의 배출오염물질의 발생이 흔히 나타나고 있다. 일반적인 세정식 처리방법과 기계적인 처리방법으로는 2미크론 이하의 오염물질을 처리하는데 동력비용등 고비용을 필요로 한다. 작은 분진일 수 록 시각적으로 더 잘 보일수 있는데 이것은 광산란 효과에 기인한다. 최대산란은 분진의 크기가 광파장 범위에 근접할때 발생한다.  미스트의 가시성을 평가하는데 있어서 가장 중요한 요인은 미스트의 발생농도가 아니라 입경의 크기에 많이 좌우 된다. 소량의 미세 분진은 증기 연무에 영향을 미치지 않을 수 있다. 이러한 연무로 인하여 불투명하게 보이는 것은 흔히 배기가스에 함유된 분진농도와 비례하여 발생되지는 않는다.

Beltran Fume Candle Filter 는 충돌 과 브라운 확산 원리를 포집의 기본원리로 사용하고 있다. 비교적 큰 미스트 입자는 필터 표면의 섬유질과 직접적인 충돌에 의하여 포집되는 반면  필터섬유층을 통과하기에 충분한 작은 미세입자들은 실제적으로 충돌에 의하여 포집되는 것이 아니다. 이것들은 비균일성과 운동방향으로 부터 비켜나가도록 하는 브라운운동에 기인한다. 그러나 궁극적으로는 섬유질에 충돌한다. 이러한 포집원리로 인하여 필터 섬유가 가늘면 가늘수 록 더 작은 분진들을 포집하기가 쉬워진다. 알려진 입경분포도에 의하여 미스트의 제어에 필요한 포집효율의 설정이 가능하게 된다.

The BELTRAN CANDLE FILTER (FUME COALESCER) 은 미크론 이하의 미세한 가용성 입자들을 제거할 수 있다. 이러한 적용처를 위하여 필터는 연속적으로 관개되고 있다. 

Principles of Operation:

Beltran Candle Filter 는 미세한 입자를 고집진효율로 처리할 수 있도록 설계되었다. 이 장치는 일반적으로 정방형 형태로 제작된다. 장치내는 필터층은 섬유입경이 섬세하게 제작되고 화학적 반응에 적절하도록 제작되어 입자의 운동에 영향을 주지 않는다. 필터 지지 스크린과 하우징은 특정 적용처에 알맞게 선정된다.

미스트와 분사된 분진을 함유하고있는 가스들은 섬유층을 수평방향으로 통과하게 된다. 미세분진들은 충돌과 확산에 의하여 포집되고 처리된 청정가스는 상부에 위치한 섬유층으로 부터 빠져 나오게 된다.  포집된 미스트는 액막에 유착하게 된다.  섬유층을 통과한 배기가스는 중력으로 인하여 필름층이 하부로 진행할 때 이 필름층을 수평방향으로 움직이게 한다.  포집된 액체는 원통형 내부로 흐르게 되고 드레인 관을 통하게 유출시키게 된다. 만일 필터가 특정 하우징안에 설치가 된다면 유출관은 하우징 바닥에 잠겨 있게된다.  필터가 흡수탑 내부에 매달리게 되면 별도의 유출액의 처리 장치가 부착되게 된다. 선택적으로 가스의 흐름을 필터의 내부로 부터 외부방향으로 향하도록 조정 할 수가 있다.

적용처(Applications)

Beltran Candle Filter 는 여러가지 적용처에 사용될 수 있다. 화학공정에서 산성 미스트는 황산공장, 올레인 저장조, 질산공장, 인산공장등에서 흔히 발생되며 이러한 것들은 벨트란의 Candle Filter로 쉽게 효과적으로 제어된다. 이 장치는 유지관리가 거의 필요하지 않으며 있다고 하더라도 최소의 관리만을 필요로 하고 있다. 소요되는 정압손실은 381mmAq이하이다.  벨트란의 Candle Filter는 금속산처리시 발생하는 흄과 염화나트륨의 흄, 염소공장에서의 염분 미스트와 산성미스트의 제거에 사용된다. 벨트란의 Candle Filter는 또한 탄화수소의 제어에도 사용된다.  아스팔트의 저장과 하역시 발생되는 흄과 여러가지 열처리 공정중 발생하는 가소제 흄 및 여러 산업공정중 발생하는 응축가능한 탄화수소의 발생을 벨트란의 Candle Filter를 사용하여 효과적으로 제어할 수 있으며 육안적으로 배출물질의 발생을 감지할 수 없도록 처리한다.